Offrire trifluoruro di azoto, agente di pulizia chimica, fluoro di gas laser chimico ad alta energia dal produttore cinese

Batteria elettro-chimica Li- (CFX)
Batteria di manganese al litio da 3V
Batteria sub -litio da 3 V
PACCHIA POLITIO POLITO LON LON
Batteria di accumulo di energia
- Batteria di stoccaggio di energia di movimento esterno
Batteria alcalina da 1,5 V.
Isotopi stabili
- Isotopo stabile B-11
Materiali intermedi farmaceutici contenenti fluoro
- Materiali biomedici perfluorooctano
Materiali di processo a semiconduttore
Materiali a fluoro di carbonio di funzione speciale
Nuovi materiali per batteria energetica

Cina Materiali di processo a semiconduttore a conti con azoto trifluoruro Fornitori

Il trifluoruro di azoto nell'industria della microelettronica è una sorta di eccellente gas di attacco al plasma, che è rotto in ioni attivo di fluoro durante il processo di attacco al plasma. Per l'incisione plasmatica di silicio e nitruro di silicio, l'uso di trifluoruro di azoto ha una velocità di incisione e una selettività più elevata rispetto all'uso di tetrafluoro di carbonio o tetrafruolo di carbonio e gas misto di ossigeno, specialmente nel processo di infrucco di materiale integrato con il circuito integrato con lo spessore di meno di 1,5 μm, Il trifluoruro di azoto ha un'eccellente velocità di attacco e selettività, per di più, non vi è alcun inquinamento sulla superficie del materiale inciso, è anche un buon agente di pulizia.